天津纳米颗粒与纳米系统国际研究中心拥有任何实验室中最为强大和精密的仪器设备，包括扫描隧道显微镜（STM）、原子力显微镜（AFM）、扫描电子显微镜（SEM）、电子束曝光（EBL）、电子束蒸镀（E-beam）、原子层沉积（ALD）、反应离子刻蚀（RIE）等一系列测试和制备设备，下面将对中心的仪器设备进行详细的介绍。
Park NX10原子力显微镜（AFM）系统，其具有多种扫描模式和同类设备中几乎最低的噪声测量值。NX10还可以用于进行非接触测量，此种测量模式可以减少尖端磨损和非破坏性尖端-样品之间的相互作用。
PanScan Freedom扫描隧道显微镜（STM）系统，能够实现样品表面结构的可视化，图像分辨率可达原子级，可用于测试晶体、金属和碳纳米管等材料样品，获得极高信噪比的表面原子结构图像。
日立SU3500扫描电子显微镜（SEM）具备非凡的成像功能，能够在3 kV加速电压下通过自动聚焦的方式实现7 nm的分辨率，全新的用户友好图形界面允许实时观察样品表面的三维图像。同时，该设备还配备了Raith的EBL系统。
牛津Teslatron PT无液氦低温超导强磁系统，能够产生高达14 T的磁场。加装合适的配件后，该设备达到的最低温度为300 mK。
MicroLab SVG-4A100为一套激光直写系统，该装置可以在平面和曲面基底上进行精细的图案制作，调节四个参数（x、y、z、θ），可以在凹面和/或凸面上写入图案时，实现实时的精准操控。
Nanonics MULTIVIEW 4000为一套原子力显微镜（AFM）系统，最多可同时使用四个探针进行相互独立的操作，当这些探针同时工作时，可以实现对样品复杂特性的同步测试。
Lakeshore的TTPX低温探针台系统，能够进行多种非破坏性的标准电学性能的测量，通过液氦或氮气的连续制冷产生低温。
沈科仪的EB-500电子束蒸镀系统可以用于半导体、多种物质薄膜和LED的制备，能够将铝、钛、铬、钼、钒、镍、银、铟等金属，以及ITO和其他氧化物蒸发并沉积到目标衬底上。
原子层沉积系统（T-ALD）是一种专门为科学研究和小规模工业化实验设计的单晶片沉积系统。该系统的电气性能完全符合CE标准，广泛应用于微电子、纳米材料、光学薄膜和太阳能电池等领域。
SCION (SQ) GC-MS适用于快速分析实验，使用了无透镜离子通道、加热离子光学和动态范围扩展检测器创新的设计，使SCION SQ能够在常规测试的基础上，即使面对复杂的待测物，也能进行准确的量化和识别。
PanScan Freedom扫描隧道显微镜（STM）系统，能够实现样品表面结构的可视化，图像分辨率可达原子级，可用于测试晶体、金属和碳纳米管等材料样品，获得极高信噪比的表面原子结构图像。
Park NX10原子力显微镜（AFM）系统，其具有多种扫描模式和同类设备中几乎最低的噪声测量值。NX10还可以用于进行非接触测量，此种测量模式可以减少尖端磨损和非破坏性尖端-样品之间的相互作用。
日立SU3500扫描电子显微镜（SEM）具备非凡的成像功能，能够在3 kV加速电压下通过自动聚焦的方式实现7 nm的分辨率，全新的用户友好图形界面允许实时观察样品表面的三维图像。同时，该设备还配备了Raith的EBL系统。
牛津Teslatron PT无液氦低温超导强磁系统，能够产生高达14 T的磁场。加装合适的配件后，该设备达到的最低温度为300 mK。
MicroLab SVG-4A100为一套激光直写系统，该装置可以在平面和曲面基底上进行精细的图案制作，调节四个参数（x、y、z、θ），可以在凹面和/或凸面上写入图案时，实现实时的精准操控。
Nanonics MULTIVIEW 4000为一套原子力显微镜（AFM）系统，最多可同时使用四个探针进行相互独立的操作，当这些探针同时工作时，可以实现对样品复杂特性的同步测试。
KDHPS-CC氦气纯化系统，其氦回收、净化和液化系统的关键部件由Pride Cryogenic公司开发。KDHPS-CC型氦气纯化系统具有控制简单、安全可靠、能耗低、无液氮消耗等特点，在需要氦气净化的实验室和其他需要高纯度氦的场合得到了广泛应用
Lakeshore的TTPX低温探针台系统，能够进行多种非破坏性的标准电学性能的测量，通过液氦或氮气的连续制冷产生低温。
沈科仪的EB-500电子束蒸镀系统可以用于半导体、多种物质薄膜和LED的制备，能够将铝、钛、铬、钼、钒、镍、银、铟等金属，以及ITO和其他氧化物蒸发并沉积到目标衬底上。
原子层沉积系统（T-ALD）是一种专门为科学研究和小规模工业化实验设计的单晶片沉积系统。该系统的电气性能完全符合CE标准，广泛应用于微电子、纳米材料、光学薄膜和太阳能电池等领域。
反应离子刻蚀机（RIE-150）是一种广泛用于刻蚀硅和碳化硅的衬底的干法刻蚀机。刻蚀气体包括SF6、CF4、O2和Ar，RIE-150可以通过软件自动控制实现具有完美侧壁轮廓的纳米级图案的制作。
日立U-3900分光光度计涵盖了从液体样品到固体样品的各种分析需求，可根据测量对象和应用进行选择，广泛应用于生物技术、制药、材料等研究领域。
YX-2高精度X射线定向仪可以对不同衍射密度的晶体芯片进行定向，成本较低，适用于大学实验室。
PlanarMet 300台式磨抛机，具有高扭矩、可连续工作，5.7 Hp的电动马达使其具备很高的材料去除率，通常出现在更大、更昂贵的地面模型机器中，集成的自动车轮修整部件和内置冷却等功能使其易于获得均匀的平面。
GSL-1700X-3 (KSL-1200X OTF-1200X-60)为适用于80 mm管径的管式炉，配有真空泵系统和9通道精密数字质量流量计，可控制九种气体进行CVD或扩散，工作温度最高可达1700℃。
共聚焦拉曼光谱仪能够分析材料的结构信息，由与徕卡DM 2700M显微镜集成的安道尔500i成像光谱仪、拉曼激发器、激光控制器和XY样品台移动处理装置组成。该光谱仪提供532 nm、638 nm和785 nm（100 mW）的三束激光，以及300线/毫米、600线/毫米和1800线/毫米的三个衍射光栅，以满足不同的测试要求。此外，该设备还可用于高分辨率的光谱表征。
HB05系列台式手动键合机，操作简单，是实验室、中试生产和小型生产线的理想选择。
磁控溅射是一种用于物理学领域的物理镀膜仪器，可制备成靶材的各种材料均可作为薄膜材料。该磁控溅射设备配有高真空系统，采用三把头设计，处于等效位置，可以同时进行多种材料掺杂溅射。
Samco's UV-1是一种紧凑的台式紫外线臭氧清洁机，不会损坏精密的电子器件。这个系统易于操作，使用紫外线辐射、臭氧和加热的组合，温和而有效地去除包括硅、砷化镓（GaAs）、蓝宝石、金属、陶瓷、石英和玻璃等各种基底上的有机材料。
VTC-16-D是一种小型直流磁控等离子体溅射镀膜机，样品台高度可调，常用样品尺寸为2英寸。该镀膜机的设计可用于制作最大膜面积为4英寸的金属膜。
SCION (SQ) GC-MS适用于快速分析实验，使用了无透镜离子通道、加热离子光学和动态范围扩展检测器创新的设计，使SCION SQ能够在常规测试的基础上，即使面对复杂的待测物，也能进行准确的量化和识别。SCION SQ的无透镜设计，能够通过减少离子损失来提高仪器的灵敏度。
脉冲激光沉积（Pulsed Laser Deposition，PLD），也被称为脉冲激光烧蚀（Pulsed laser ablation，PLA），是一种利用激光对物体进行轰击，然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上，得到沉淀或者薄膜的一种手段。
 system.jpg)
安捷伦7890B气相色谱仪，是世界上使用最为广泛的气相色谱，具有精确的温度控制和注射系统，配备增强的电子气动控制（EPC）模块，可获得最佳的保留时间。
