DATE：2025/06/27 Fri. 14:00 pm-16:00 pm Meeting Room, Fourth Floor, TICNN, Tianjin University
聚焦离子束（Focused Ion Beam）简称 （FIB）是将一束Ga离子聚焦并对样品表面进行扫描。离子束对表面的轰击会将表面原子溅射出来。让离子束按指定的图形扫描就可刻出所需的图案。如果同时注入化学气体，就可做局部的化学沉积（CVD）而得到所需的沉积图案。近二十年以来聚焦离子束越来越多地应用于材料科学、生物、半导体集成电路和数据储存磁盘等领域。随着电镜技术的发展，聚焦离子束（FIB）的应用已经从截面检测扩展到纳米图像制备、透射样品制备、三维成像和分析、电路编辑和修复。
新型聚焦离子束Xe离子的发展扩展了加工尺度，为三维分析提供了具有统计意义的结果。在性能上也为新材料标准带来新的契机。原位技术的发展为动态观察和模拟材料制造和服役状态下的行为提供了可能性。冷台的发展为敏感样品的表征提供了更真实的结果。
本次报告韩伟博士将介绍赛默飞双束电镜的最新技术进展和相关案例，如截面分析与成像、TEM样品制备、三维表征技术。报告也将介绍FIB技术的最新发展，比如聚焦等离子源技术的特点及应用。
| 韩伟博士 现任赛默飞世尔科技高级业务拓展经理 |
1998年获得北京工业大学材料学硕士学位，2004年获得德国克劳斯塔尔工业大学物理学博士学位。曾从事金属材料、高温超导材料、原位催化反应及传感器、电子显微镜技术方面开发及应用研究，发表过多篇论文。2010加入FEI，目前从事推广电子显微镜技术及解决方案，推动电镜新技术的应用和创新。
