2025/06/20 Fri. 14:00 pm-16:00 pm
Meeting Room, Fourth Floor, TICNN, Tianjin University
微纳加工作为先进制造技术的核心之一，近几年发展越来越快。从复刻蝴蝶翅膀的结构色到我们身份证的制作，以及壁虎吸盘的仿生材料和MEMS 传感器，许多结构精细的微纳米材料和功能器件逐步走入了生活和工业的各个领域。微纳材料和器件的制造依赖于先进的工艺和手段，在整个制造工艺流程中，图形化设备尤为重要，正如在芯片制造领域，光刻机是重中之重。 本次讲座介绍了微纳制造技术的基本概况和光刻图形化设备，重点介绍激光直写光刻的原理，技术路径和在微纳制造领域的应用，包括2D平面图形光刻和3D灰度图形光刻和苏大维格取得的成果， 最后进行激光直写光刻领域的展望。
| 蒋平 苏大维格光刻机事业部 VP江苏维普光电创始人 |
东南大学研究生、复旦大学微电子博士。参与多个国家专项和重大仪器专项光刻专项，目前担任全国半导体设备与材料标准化委员会微光刻分技术委员会委员。主持和参与多项国家专项和江苏省前瞻性项目。曾在华为任职，期间负责海外销售与服务。2014年起任合肥芯硕半导体公司副总，负责直写光刻机销售与服务。后任职苏大维格光刻机事业部VP，负责拓展国际国内市场。此外，作为核心创始人创立江苏维普光电，带领公司连续两年获得江苏省双创第一名和国家创业优秀奖。
精美礼品：苏大维格光刻机和苏州丝绸博物馆联合开发的产品 “丝绸上的浮雕”立体冰箱贴
